2025-08-07
技術應用
【Vac Coat】 即時通訊（2025 年 7 月）
桌上型碳塗佈機 型號︰DCR
DCR Vac Coat Carbon Coater 是一款用於電子顯微鏡樣品或 TEM 網格製備的高品質碳鍍膜設備，其設計目的是進行碳絲或碳棒的蒸發沉積，並且支援半自動至接近全自動操作流程。
主要特點：
- 可透過雙級旋片真空幫浦將腔體抽至約 30 mTorr
- 電子遮光器 (Electronic shutter)
- 利用 QCM（石英晶體微天平）達成 1 nm 精度、0.1 Å 解析度的鍍膜厚度監測
- 硼矽玻璃腔體
- 高度與傾斜角度可調式旋轉樣品支架
- 7 吋彩色觸控螢幕，支援程式化鍍膜流程與 USB 資料匯出。
- 通過 CE 認證，具備全球產品責任保險，保證操作安全與產品可靠性 適用於 SEM（掃描式電子顯微鏡）樣品導電層鍍膜或導電接觸鍍膜。
光電元件中的 PVD 薄膜鍍膜技術
物理氣相沉積（PVD）技術在提升光電元件性能方面扮演了關鍵角色，能實現精確、均勻且具功能性的薄膜鍍膜。無論是太陽能電池、光偵測器、LEDs，或是光學感測器，高品質薄膜都能有效提升效率、耐用性與訊號清晰度，是現代光電裝置不可或缺。在 Vac Coat，我們提供先進的 PVD 鍍膜系統，專為光電研究與產業應用中的嚴苛需求而設計。
Vac Coat 為新產品系列取得 CE 認證
Vac Coat 最新一系列高科技產品正式獲得 CE 認證。此項認證證明該公司產品符合歐盟對安全、健康與環境保護的嚴格規範，進一步鞏固其在國際市場的競爭力。
為什麼薄膜沉積需要 QCM？
石英晶體微天平（Quartz Crystal Microbalance, QCM）是在真空鍍膜過程中監測與精準控制薄膜厚度的關鍵工具。它能進行即時監測，透過測量石英晶體的頻率變化，檢測出奈克級（nanogram-level）的質量變化。這可確保在 PVD（物理氣相沉積）與 CVD（化學氣相沉積）系統中維持一致性、準確性與製程效率。
研究實驗室與高精度製造領域的必備工具
什麼是磁控濺鍍（Magnetron Sputtering）？
磁控濺鍍是濺鍍沉積的一個子類型，其中使用磁控陰極來加強離子與靶材之間的碰撞。這種設計可有效提高濺鍍與沉積速率。磁控濺鍍相較於傳統濺鍍的優勢，使得磁控陰極成為現代濺鍍系統中的核心元件。
Vac Coat 與荷蘭 j.j. bos b.v. 合作
Vac Coat Ltd. 已與荷蘭的 j.j. bos b.v. 簽訂代理協議，正式成為其在荷蘭的新合作夥伴。此合作關係將有助於 Vac Coat 擴展其真空鍍膜系統在比利時、荷蘭與盧森堡三個國家的市場佈局。
