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脈衝雷射沉積和熱蒸發系統
多功能脈衝雷射沉積和熱蒸鍍系統 - PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈衝雷射沉積和熱蒸鍍技術沉積不同的材料。它可以將復雜的材料和晶體結構沉積到基底上，只需很少的設置。
脈衝類射沉積技術可實現高效率、非熱消熔，並保持目標材料的化學計量。通過應用這種方法，可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。